NMOS3400管的应用领域是什么?
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与双极晶体管相比,MOS管驱动通常被认为通过不需要MOS管的电流,GS电压高于一定值即可。这很容易做到,但我们仍然需要速度。从MOS管的结构可以看出,GS、GD之间有寄生电容,MOS管的驱动理论上是给电容充电。电容的充电需要电流。充电电容的瞬间可以把电容看作短路,所以瞬间电流会更大。选择/设计MOS管驱动器时,首先要注意的是能够提供瞬间短路电流的大小。其次,通常用于驱动NMOS,诱导时栅极电压必须大于源极电压。驱动MOS管的源极电压与泄漏电压(VCC)相同,因此栅极电压比VCC大4V或10V。假设要在同一系统中获得比VCC更大的电压,需要特别的升压电路。许多电动机驱动器都集成了电荷泵。请注意,为了获得足够的短路电流来驱动MOS管道,必须选择适当的外部电容器。上述4V或10V是常用MOS管道的传导电压,设计时当然需要一些余量。而且,电压越高,传导速度越快,传导阻力也越小。平时传导电压更小的MOS在很多领域工作,但在12V汽车电子系统中,普通的4V桶就足够了。
NMOS3400管的主要参数如下:
1.栅极源击穿电压BVGS-当栅极源电压增加时,栅极电流IG从零开始猛增时,VGS被称为栅极源击穿电压BVGS。
2.开电压VT-开电压(也称为阈值电压):启动在源极S和泄漏D之间配置导电沟所需的栅极电压。-标准N通道Moss管,VT约3 ~ 6v-改善将MOS管的VT值降低到2 ~ 3v的过程。
3.泄漏源屈服电压BVDS- VGS=0(强化)条件下,在增加泄漏源电压的同时,ID猛增的VDS,泄漏源屈服电压BVDS-ID猛增的原因有两个:
(1)泄漏极左侧近枯竭层雪崩破坏
(2)泄漏源极间穿透-在某些MOS管中,通道长度短,随着VDS的增加,漏水区域的贫化层有时会延伸到源区域,因此通道长度为零。也就是说,泄漏源之间发生通过,通过后,源区域的大部分载流子将直接承受枯竭层电场的吸收,到达泄漏区域。直流输入电阻RGS,即浇口源极之间添加的电压与浇口电流的比率-此特性有时表示为通过浇口的浇口流。-MOS管的RGS很容易超过1010。
低频跨导gm- VDS是一定的数字时,引起这种变化的栅极源电压微变量的比率称为跨导-gm。栅极源电压反映了对泄漏电流的控制能力。这是指示MOS管放大功能的重要参数。通常在几mA/V的范围内。